在半导体制造、平板显示、太阳能电池及精密光学镀膜等工业领域,等离子体工艺的稳定与精确直接决定了产品的性能与良率。美国Advanced Energy公司是精密电源与控制技术的全球企业,其CESAR系列射频等离子发生器适用于高要求工业场景。CESAR 133型号具备300W输出功率与13.56MHz工业标准频率,可在实验室研发与小规模生产中,为等离子体清洗、刻蚀、沉积等工艺提供稳定动力支持。
CESAR 133采用E类放大器架构,可适应高失配负载条件,在复杂等离子体环境中保持稳定运行,降低负载突变带来的设备影响。设备功率调节精度较高,工艺参数重复性表现良好,支持脉冲模式操作,可适配多种先进工艺需求。
产品配备LCD液晶面板与多语言菜单,集成模拟量、RS-232、以太网及Profibus等通讯接口,可接入自动化生产线,满足远程监控与工艺管理需求。
| 参数项目 | 技术指标 |
| 产品型号 | CESAR 133 |
| 额定输出功率 | 300W |
| 工作频率 | 13.560MHz |
| 输入电源 | 230V AC(187V-253V) |
| 结构尺寸 | 19英寸机架,483mm×500mm×88mm |
| 冷却方式 | 强制风冷 |
| 保护功能 | 过流、过压、过温、VSWR保护 |
| 安全认证 | 符合CE、SEMI行业标准 |

CESAR 133可应用于半导体前端工艺与封装领域,支持晶圆薄膜生长、等离子刻蚀及芯片封装清洗,稳定性能与脉冲功能可辅助控制工艺质量,保障尺寸一致性。
在平板显示与触摸屏制造中,设备可用于玻璃基板活化清洗与导电膜刻蚀,稳定射频输出可提升大面积基板处理均匀性。同时适用于太阳能电池硅片沉积清洗、工业装饰镀膜与光学镜片功能镀膜,多接口设计可实现自动化集成与工艺可追溯管理。
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